Tokyo (Giappone) – Canon, l’azienda giapponese nota soprattutto per le sue stampanti e fotocamere, ha lanciato la settimana scorsa uno strumento che, a suo dire, può aiutare a produrre chip e semiconduttori più avanzati. L’ultimo sistema di “nanoimprint lithography” costituisce infatti una sfida alla leadership incontrastata della società olandese ASML, che domina il settore delle macchine per la litografia a ultravioletti estremi (EUV).
Gli strumenti di ASML sono necessari per realizzare i chip degli ultimi iPhone di Apple, prodotti a Taiwan dalla TSMC, così come tutta la microcomponentistica che viene utilizzata nelle device tecnologiche di ultimissima generazione. Le macchine di ASML, proprio per la loro strategicità, sono da tempo al centro di una vera e propria battaglia tra Stati Uniti e Cina, con Washington che grazie a un accordo con le autorità dei Paesi Bassi ha interdetto di fatto la cessione a Pechino di questi macchinari, costosissimi ed estremamente preziosi.
Canon ha dichiarato che la sua ultima macchina, chiamata FPA-1200NZ2C, sarà in grado di produrre semiconduttori equivalenti a un processo da 5 nm e di scendere fino a 2 nm. A titolo di esempio, il chip A17 Pro dell’iPhone 15 Pro e Pro Max di Apple è un semiconduttore da 3 nm.
